近年来,随着科技的不断发展,越来越多的技术被应用到各个领域中。其中,等离子放电原理技术在表面微观整平领域发挥着重要作用。利用这一技术,可以让放电通道更多地是在微观凸起的位置形成,从而优先去除该位置的材料,从而达到表面微观整平的效果。抛光开始阶段,粗糙度下降速度较快,但随着抛光时间的延长,该趋势逐渐减弱。通过分析离子放电原理,探究其对微观凸起位置材料的优先去除效果。研究表明,在抛光开始阶段,由于样件表面存在明显凹凸不平的状态,离子在凸起处更加集中,放电通道更多地选择在凸起的位置形成,从而使粗糙度下降速度较快。但随着抛光时间的延长,样件凹凸不平的状态得到改善,放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱,从而使粗糙度下降的速度减小。
粗抛光是什么?粗抛的目的是去除工件表面较大的披锋、毛刺和刮伤等,这一阶段应具有大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应相对对平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。抛光技术是金属表面处理的关键技术之一,抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中是不可或缺的生产步骤。
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