4分钟前 扬州真空电镀公司诚信企业「多图」[瑞泓科技92edd1f]内容：

真空镀膜机离子镀技术市场使用占比率非常高，镀餐具，镀家居，镀饰品等都离不开离子镀膜技术，离子镀膜技术不仅仅在国内受追捧，国外也是一样受喜爱。那么，真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的？下面小编为大家详细介绍一下：

离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。

镀金属膜层,将待镀产品传入装有金属靶材的镀膜腔室,开启泵抽真空及加热装置进行基底加热,使得本底真空达到1×10-3Pa 及达到80-150℃工艺温度后,向腔室通入10-1000sccm的ya气,启动溅射电源,设置溅射功率1-15KW,镀膜时间10-300S,得到厚度为1-100nm的金属膜层,金属膜层为铜(Cu)、银(Ag)、铝(Al)、铬(Cr)等金属膜层,或镍铜(NiCu)、镍铬(NiCr)等合金膜层;

镀低折射率膜层,将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室,加热达到80-150℃的工艺温度,向腔室通入工艺气体,设置溅射功率1-15KW,镀膜时间1-300S,得到厚度为1-100nm的低折射率膜层,此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层;

而其中常被使用于钟表制作上的，则是溅射法与离子镀。溅射法是以高能量的粒子撞及靶材(镀材)时，材料的分子或原子被撞击出来后，附着在被镀材上，并堆积形成薄膜的技术。溅射法在钟表制作的应用范围相当广，如表壳、链带，乃至于指针、刻度的表面镀层处理等。由溅射法所制作出来的PVD真空镀膜有着好的耐磨耗性、耐蚀性、耐热性及装饰性，但因为附着性仅能算是中等，所以较少使用在会直接产生磨损的零部件(如齿轮、表扣)之上。

抽真空系统，目前基本是两种，一种是扩散泵系统，一种是分子泵系统，分子泵系统属于清洁抽气系统，没有扩散泵的返油现象，抽速也相对比较稳定，而且比较省电，电费的支出是镀膜企业生产运营成本中很大的一环。对于泵系统的定期维护是很重要的，特别是润滑油的定期更换，注意油品牌号的选择，选择错误很容易损坏真空泵。

真空检测系统，目前基本都是用复合真空计，热偶规+电离规的组合，这个组合在遇到充入大量含有C元素的气体的工艺，电离规很容易毒化，造成电离规损坏，如果镀制含有大量C元素的气体的工艺，可以考虑，配置电容薄膜规。