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分子束外延MBE是一种晶体生长技术,首先将待成长的芯片放置在超高真空腔体中（~10-10Torr）,和将需要生长的单晶物质按元素的不同分别放在喷射炉中,当炉温升至一定温度时,炉中的材料会以原子束或分子束的形式蒸发出来,此时基板也被加热至一适当的温度,分子束射至基板时,就会与基板表面的原子结合而生长出极薄的,可薄至单原子层水平,单晶体和几种物质交替的超晶格结构.
描隧道显微镜STM是根据力学中的隧道效应原理,通过探测固体表面原子中电子的隧道电流来分辨固体表面形貌的新型显微装置.用客户案例:某大学自主搭建分子束外延与扫描隧道显微镜系统,经过爱发科推荐,采用分子泵和涡轮分子泵80并搭配美国HVA真空闸阀成功分析生长晶体表面结构。
涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.
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分子泵入口应装设防护网，以避免异物进入泵内损坏泵转子和定子叶片。抽气系统装有单独粗抽管路的涡轮分子泵抽气系统的操作方法与扩散泵抽气系统相似。在开始粗抽以前，高真空阀和粗抽阀是关着的，而前级管道阀是打开的。首先关闭前级阀，启动粗抽泵（兼前级泵），打开粗抽阀开始对真空室进行抽气。在真空室内的压力降到150~100Pa时关闭粗抽阀，打开前级管道阀，再启动涡轮分子泵（需先接通冷却系统）。
如果分子泵入口处装有液氮冷阱，则应在泵加速到额定转速后（一般需5~10min）加注液氮。1-涡轮分子泵；2-液氮冷阱；3-放气阀；4-电离规；5-热传导规；6-粗抽阀；7-机械泵；8-前级管路阀；9-高真空阀。图1 典型涡轮分子泵抽气系统粗抽系统的配置随真空室的容积大小而有所不同。对500L/s或更小的涡轮分子泵来说，可采用一台双级旋片泵；1000L/s以上的涡轮分子泵则采用以机械泵为前级泵的罗茨泵机组。
在压力为100到150Pa时关闭粗抽阀，把真空室切换到涡轮分子泵上。对某些泵，这样做会引起轻微而滞后的瞬时减速，但这对抽气并无影响。正如扩散泵抽气系统那样，涡轮分子泵系统中的很主要的物质是水蒸气，其臭气时间将受液氮冷阱抽速的支配。如果不用液氮冷阱，那么这个系统抽除水蒸气的速度就会比同样抽速的无冷阱扩散泵略慢一些。
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ARPES光束线客户案例:某光源ARPES光束线真空系统,真空系统是同步辐射光束线的重要组成部分,只有在真空环境中运行,光学元件才能够将同步辐射光传输到试验站,真空系统的作用就是获得并维持合理的真空度,保证光束线的稳定运行.此系统搭配爱发科分子泵80,及配套真空规.
真空系统要求(分子泵):
1.静态真空(无束流):5x10-8Pa,动态真空(有束流):
2.真空系统基本配置:离子泵+无油分子泵+冷阴极真空规管+气体分析仪超高真空系统配置:
涡轮分子泵
接口:DN100CF-F
极限真空:氮气压缩比:>1X1011涡轮分子泵80
接口:DN63CF-F
极限真空:氮气压缩比:>1X1011残余气体分析仪PrismaPro
质量数:1-300amu
四极杆直径／长度:6/125mm
很大工作压力FhPa:5X10-4
涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.更多分子泵典型应用>>
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涡轮分子泵与油扩散泵相比具有启动快,有机蒸汽污染少和极限真空高等特点.因此在氦质谱检漏仪中采用分子泵作为高真空系统,即使检漏仪不用液氮冷阱,质谱室也不致严重沾污,并能保持较低的本底或杂声.这有利于氦质谱检漏仪的灵敏度和稳定性的提高,并且延长离子源的使用寿命.
氦质谱检漏仪质量范围很宽，不仅可检测氦气，而且能检测其它气体。分子泵排气系统取代扩散泵排气系统，不仅解决了油蒸气对质谱室的污染问题，而且对快速启动仪器和快速停机做出了很大贡献。氦质谱检漏仪中没有手动阀，现已采用自控阀自动调节运转时的误差。同时用涡轮分子泵取代了油扩散泵，以消除可能造成的油返流。计算机技术也在检漏仪中获得应用。运转、控制和输出数据均由计算机自动操作完成。
我们都知道，旋转机械的不平衡是引起振动的常见原因之一，由此产生的振动力取决于旋转速度以及不平衡的程度。而在高速旋转的机械中，不平衡则是非常严重的问题。尤其对转子速度高达90000rpm（1500rpm/sec）的涡轮分子泵而言，对于动平衡品质的要求极高，哪怕是几毫克范围内轻微的不平衡，都会对泵的运行产生重大影响。因此，涡轮分子泵的转子需要做精密的动平衡，品质好的动平衡既关系到转子的平稳运行，也关系到涡轮分子泵的磨损，还可确保将传递到真空腔室和用户应用系统上的振动降至很低。
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