当前，在我国使用的镀膜玻璃主要有以下几种方式生产：
1．电子枪蒸发镀膜机：利用热蒸发器的真空镀膜机生产镀膜玻璃，因整体生产是断续进行的，清洗后的部分玻璃常常需在车间中等待一段时间后方可进行镀膜室镀膜。
当前，在我国使用的镀膜玻璃主要：
1．真空蒸发镀膜：利用热蒸发器的真空镀膜机生产镀膜玻璃，因整体生产是断续进行的，清洗后的部分玻璃常常需在车间中等待一段时间后方可进行镀膜室镀膜，此时，玻璃会受到二次污染，致使被污染部分镀上的膜层易脱落，膜层的均匀性差，易有彩虹色差及反射率偏高，并且玻璃只镀一层膜，极易在空气中变色且不能生产大规格玻璃。因此，建设部作出明确规定，此类镀膜玻璃不易作幕墙玻璃。Parylene如此高的介电强度主要归功于Parylene能形成连续无缺陷和无其它填充物的薄膜。
带钢真空镀膜总的来说仍处在发展的初级阶段，在带钢表面处理中所占份额目前还远不能与热浸镀、电镀相比。阻碍带钢真空镀膜发展的主要原因是生产率低，成本较高。有效的解决方法是开发研制高速，稳定的高功率蒸发源。
大功率电子枪的开发和使用是带钢真空镀膜中的关键技术。一般的真空蒸发镀膜可以采用电阻加热和感应加热。它的设备较简单，但加热温度和蒸发速率较低。要满足连续式工业化生产钢带真空镀膜的需要，就必须使用加热速度快，熔化温度高的热源。
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。对经过清洗处理的清洁表面，不能在大气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。镀膜前必先给车辆抛光，而再好的抛光机器和抛光工艺还是会伤到车漆。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
