非会员信息
5分钟前 新沂电话壳曝光显影生产厂家询价咨询 东莞利成感光五金[利成感光38dbdb8]内容：3D玻璃遮蔽可以移印，贴合，曲面角度小还是可以做贴合工艺；还有就是曝光显影；比如vivo X21，是中间贴膜，四周用喷墨曝光显影补线方式。将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，掩膜板与喷墨后的玻璃紧密接触，通过曝光技术，使图形转印到玻璃之上，完成原有印刷之功能。蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序，曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上，然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准，再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间，固定后进行曝光。

显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆显影工艺是指用显影液去除晶圆上部分光刻胶，形成三维的物理图形

旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。甩干（spin dry）：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速准备基础物质：先选择基础物质如硅片，并在其表面上涂上一层光刻胶。布图设计：根据芯片设计，制定合适的曝光和显影条件，并在计算机上生成掩模图形来辅助芯片制造。曝光：使用紫外线曝光机将掩膜上的图案投射到光刻胶上。显影喷淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。

曝光显影工艺主要应用于微电子加工中，是一种将芯片图案传递到硅片上的技术。

曝光显影工艺可以分为以下步骤：准备硅片：在硅片上涂覆光刻胶，将硅片和光刻胶一起加热，使其在表面形成均匀的光刻胶层。照射：使用紫外线辐射光源将芯片图案(或感光掩膜中的图案）通过掩膜传递到光刻胶层上。

只有对公差配合完全掌握，才能简单可靠的做出合格品。目前加工行业在致力打造喷涂曝光显影一条龙服务，这种表面装饰工艺可以克服贴合的一些不足，具备一定的优势，目前蓝思、伯恩的曝光显影加工工艺相对比较成熟。